フォトリソグラフィー・ウェットケミカル処理装置

株式会社キムラ・エッチング

製品情報

顧客に信頼され喜んでもらえる
機械作りを目指す

  • 研究開発用途の実験装置から生産装置まで、各種ウエットケミカル処理(エッチング、現像、剥離、洗浄等)装置を設計・製作しております。
  • 装置本体材質はPVCがメインですが、使用薬液・温度に応じてPP・PVDF・SUSでも製作しております。
  • 弊社の装置は全て、お客様のご要望にあわせて製作するCustom商品です。
  • 装置改造・移設などの現場作業も承っております。

いつまでも安全にお使いできるよう徹底したアフターサービス

カスタム製作・納品後も

アフターサービス部門は、「お客様の機械」 の安全のため、当社が最重点をおいております。

都内、国内はもとより、香港、シンガポール、マレーシア、タイ、台湾などの輸出先からも、アフターサービスでは信頼を得ております。

量産装置

前処理装置

前処理装置

用途

ドライフィルムレジスト ラミネート前の脱脂洗浄

処理工程

投入~アルカリ洗浄~液切~循環水洗~液切~酸洗浄~循環水洗~直水洗~エアナイフ~乾燥~受取

有効処理幅

1000㎜

装置寸法

7000x1900x1300㎜(LxWxH)

現像装置

現像装置

用途

ドライフィルムレジスト及び液状レジスト現像

処理工程

投入~現像~液切~循環水洗~直水洗~絞り~受取

有効処理幅

600㎜

装置寸法

4100x920x1700㎜(LxWxH)

※フィルター及び建浴タンクは別置き

エッチング装置

エッチング装置

用途

金属板の塩化第二鉄液エッチング

処理工程

投入~エッチング~液切~循環水洗~受取

有効処理幅

600㎜

装置寸法

5500x1500x1800㎜(LxWxH)

エッチング装置

エッチング装置

用途

セラミック基板上の薄膜をエッチング

処理工程

投入~エッチング~液切(エアナイフ)~循環水洗~直水洗~エアナイフ~受取

有効処理幅

200㎜

装置寸法

6000x1000x1300㎜(LxWxH)

エッチング装置

エッチング装置

用途

ガラス基板上の薄膜をエッチング

処理工程

投入~エッチング~液切(エアナイフ)~循環水洗~受取

剥離装置

用途

エッチング後の不要レジスト除去

特徴

アミン系剥離液対応

装置材質

PVC又はSUS

ラボ及び少量向け装置

現像装置

現像装置

特徴

現像及び水洗時間設定可能な搬送揺動方式

有効処理幅

300㎜

処理工程

投入~現像~循環水洗~直水洗~エアナイフ~受取

装置寸法

3900x1100x1300㎜(LxWxH)

復動式ドライフィルム現像装置

復動式ドライフィルム現像装置

特徴

現像時間設定可能な搬送揺動方式
投入部・受取部兼用の省スペースタイプ

有効処理幅

300㎜

処理工程

投入~現像~循環水洗~直水洗~エアナイフ~受取

装置寸法

2200x1300x1200㎜(LxWxH)

スピン現像装置

スピン現像装置

用途

セラミック・ガラス基板用

標準仕様

ワークFace Upで上面よりスプレー処理
処理中ワークはスピンし、回転数は任意に変更可能
ワークサイズ:Max300×300mm、
       Min30×30mm
ワーク回転数:Max150rpm
装置寸法:820W×820D×1220Hmm

竪型エッチング装置

竪型エッチング装置

ワークサイズ

MAX.約1000x1000㎜まで処理可能

エッチング方式

ノズルオシュレーション及びワーク回転

横型エッチング装置

横型エッチング装置

ワークサイズ

MAX.約700x700㎜まで処理可能

エッチング方式

ノズルオシュレーション及びワーク回転

エッチング実験装置

エッチング実験装置

ワークサイズ

300x300㎜

エッチング方式

ワーク水平揺動

装置寸法

800x500x1000H㎜

パドル式エッチング装置

パドル式エッチング装置

製版及びネームプレート用

ディップコーター

ディップコーター

特徴

多段変速で広範囲な粘度に対応
感光液のロスが殆ど無し
5μ濾過装置内蔵

標準仕様

500×500mmワークを3枚同時塗布

装置寸法

1000W×750D×1850Hmm

その他

薬液調合タンク

薬液調合タンク

乾燥機

乾燥機

竪バット式スプレー及びディップ処理槽

竪バット式スプレー及びディップ処理槽

ドラフトチャンバー

ドラフトチャンバー