製品情報
顧客に信頼され喜んでもらえる
機械作りを目指す
- 研究開発用途の実験装置から生産装置まで、各種ウエットケミカル処理(エッチング、現像、剥離、洗浄等)装置を設計・製作しております。
- 装置本体材質はPVCがメインですが、使用薬液・温度に応じてPP・PVDF・SUSでも製作しております。
- 弊社の装置は全て、お客様のご要望にあわせて製作するCustom商品です。
- 装置改造・移設などの現場作業も承っております。
フォトリソグラフィー・ウェットケミカル処理装置
アフターサービス部門は、「お客様の機械」 の安全のため、当社が最重点をおいております。
都内、国内はもとより、香港、シンガポール、マレーシア、タイ、台湾などの輸出先からも、アフターサービスでは信頼を得ております。
ドライフィルムレジスト ラミネート前の脱脂洗浄
投入~アルカリ洗浄~液切~循環水洗~液切~酸洗浄~循環水洗~直水洗~エアナイフ~乾燥~受取
1000㎜
7000x1900x1300㎜(LxWxH)
ドライフィルムレジスト及び液状レジスト現像
投入~現像~液切~循環水洗~直水洗~絞り~受取
600㎜
4100x920x1700㎜(LxWxH)
※フィルター及び建浴タンクは別置き
金属板の塩化第二鉄液エッチング
投入~エッチング~液切~循環水洗~受取
600㎜
5500x1500x1800㎜(LxWxH)
セラミック基板上の薄膜をエッチング
投入~エッチング~液切(エアナイフ)~循環水洗~直水洗~エアナイフ~受取
200㎜
6000x1000x1300㎜(LxWxH)
ガラス基板上の薄膜をエッチング
投入~エッチング~液切(エアナイフ)~循環水洗~受取
エッチング後の不要レジスト除去
アミン系剥離液対応
PVC又はSUS
現像及び水洗時間設定可能な搬送揺動方式
300㎜
投入~現像~循環水洗~直水洗~エアナイフ~受取
3900x1100x1300㎜(LxWxH)
現像時間設定可能な搬送揺動方式
投入部・受取部兼用の省スペースタイプ
300㎜
投入~現像~循環水洗~直水洗~エアナイフ~受取
2200x1300x1200㎜(LxWxH)
セラミック・ガラス基板用
ワークFace Upで上面よりスプレー処理
処理中ワークはスピンし、回転数は任意に変更可能
ワークサイズ:Max300×300mm、
Min30×30mm
ワーク回転数:Max150rpm
装置寸法:820W×820D×1220Hmm
MAX.約1000x1000㎜まで処理可能
ノズルオシュレーション及びワーク回転
MAX.約700x700㎜まで処理可能
ノズルオシュレーション及びワーク回転
300x300㎜
ワーク水平揺動
800x500x1000H㎜
製版及びネームプレート用
多段変速で広範囲な粘度に対応
感光液のロスが殆ど無し
5μ濾過装置内蔵
500×500mmワークを3枚同時塗布
1000W×750D×1850Hmm